Phán xạ là công nghệ được sử dụng để tạo màng mỏng trên tấm bán dẫn silicon, thủy tinh hoặc chất nền khác Trong trạng thái chân không được duy trì trong máy phún xạ, mục tiêu phún xạ sẽ bị bắn phá bằng các ion argon Điều này làm cho các nguyên tử hoặc phân tử được phát ra từ mục tiêu phún xạ Các nguyên tử hoặc phân tử được lắng đọng và tạo thành một màng mỏng trên bề mặt Mục tiêu phún xạ là đối tượng của sự bắn phá ion khi quá trình phún xạ diễn ra

Xem quy trình phún xạ được giải thích trong video: